HIGIENIZACJA I GRANULACJA OSADÓW ŚCIEKOWYCH
Proponowana instalacja służy do realizacji procesu pełnej higienizacji osadów ściekowych z wykorzystaniem wapna palonego. W procesie tym czynnikiem odkażającym jest przede wszystkim wysoka temperatura i jako czynnik dodatkowy silnie alkaliczny odczyn substancji.
W czasie obróbki osadów wapnem temperatura może osiągnąć i przekroczyć nawet 100°C. Podczas mieszania zachodzi reakcja wapna palonego (CaO) z wodą zawartą w cieczy osadowej przetwarzanych osadów. W wyniku tej reakcji powstaje wapno gaszone Ca(OH)₂ i wydziela się energia cieplna.
Jednym z istotnych czynników mających wpływ na przebieg procesów wapnowania jest chemiczna i fizyczna charakterystyka wapna. Rozmiary cząstek mogą wpływać na szybkość procesu hydratacji a zatem i na czas wymagany do uzyskania temperatury pasteryzacji. Hydratacja polega na zmieszaniu wapna z taką ilością wody, przy której uzyska się wapno w postaci suchego proszku. Produkt może być pakowany i wywożony z terenu oczyszczalni.
W wyniku przebiegu procesu technologicznego w projektowanej instalacji uzyskany zostanie produkt końcowy w postaci polepszacza do gleby.
Cała instalacja jest w pełni zautomatyzowana. Wysoka temperatura procesu gwarantuje pełną higienizację osadu.
Wydajność i wielkość instalacji jest dopasowana do wielkości produkcji osadów na oczyszczalni.
Podstawowymi urządzeniami w ścieżce przetwarzania frakcji stałej są:
- Transporter osadu,
- Silos wapna,
- Transporter wapna z dozowaniem,
- Reaktor granulujący wapno z osadem,
- Reaktor tunelowy.
W ścieżce przetwarzania frakcji gazowej i ciekłej są:
- Okapy odciągowe pary wodnej,
- Magistrala odciągowa pary wodnej,
- Adsorber,
- Promieniowy wentylator wyciągowy.
Wszystkie urządzenia procesowe będą połączone za pomocą systemu automatyki i sterowane na podstawie algorytmów uzyskanych po procesie identyfikacji i optymalizacji procesu. Identyfikacja i optymalizacja procesu higienizacji osadów będzie realizowana podczas prób ruchowych instalacji.
